蔡司掃描電鏡ORION NanoFab離子束掃描電子顯微鏡
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快速亞 10 nm 結構加工
使用氖和氦離子束加工有超高精度要求的精細亞 10 納米結構。無論是使用濺射、氣體輔助切割、氣體輔助沉積或是光刻技術刻蝕材料，在亞 10nm 加工應用中 ORION NanoFab 均表現不凡。
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集三種離子束顯微技術于一體
使用鎵聚焦離子束刻蝕大塊材料。利用精準的氖離子束快速完成微加工，利用氦離子束加工精細的亞 10 納米級結構。利用氦和氖離子還可以防止傳統 FIB 鎵粒子注入引起的基體材料性質變化。
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高分辨率成像
借助 0.5 納米成像分辨率，它可在同一臺加工儀器中實現樣品的高分辨率成像。與使用場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）成像相比，其可獲得 5 至 10 倍的景深并和更豐富的圖像細節。
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