德國蔡司ZEISS場發射掃描電鏡SIGMA系列介紹
聚焦卡爾·蔡司
全球電鏡標準締造者
SIGMA 300
ZEISS場發射掃描電鏡SIGMA 300
蔡司公司推出Sigma 300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計,將低電壓成像技術發揮到了極致,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。
Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節省了設置與分析操作的時間,提高效率。
SIGMA 500
ZEISS場發射掃描電鏡SIGMA 500
蔡司公司推出的Sigma 500場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計,分辨率超過0.8nm,提供優秀分辨率和分析性能科研平臺。
Sigma500專注于一流的EDS幾何學設計可以獲取精湛的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配應用程序:獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。
■ 產品應用
掃描電鏡廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。